Anwendung von Siliziumnitrid-Keramikmaterialien
2021-07-13
Siliziumnitrid-Keramikmaterialien weisen eine hohe thermische Stabilität, eine starke Oxidationsbeständigkeit sowie ein hohes Niveau und hervorragende Funktionen der Standardgenauigkeit auf. Da Siliziumnitrid eine kovalente Verbindung mit hoher Bindungsstärke ist und an der Luft einen oxidischen Schutzfilm bilden kann, weist es auch eine hervorragende chemische Stabilität auf. Es wird nicht unter 1200°C oxidiert. Die Bildung eines Schutzfilms bei 1200–1600 °C kann eine weitere Oxidation verhindern und wird von vielen geschmolzenen Metallen oder Legierungen wie Aluminium, Blei, Zinn, Silber, Messing, Nickel usw. nicht befeuchtet oder korrodiert, kann aber kann durch geschmolzenes Magnesium, Nickel-Chrom-Legierungen, Edelstahl und andere geschmolzene Metalle korrodiert werden. Heizelement aus Siliziumnitrid
Siliziumnitrid-Keramikmaterialien können für technische Hochtemperaturkomponenten, fortschrittliche feuerfeste Materialien in der metallurgischen Industrie, Korrosionsschutzkomponenten und Dichtungskomponenten in der chemischen Industrie, Werkzeuge und Schneidwerkzeuge in der zerspanenden Industrie usw. verwendet werden.
Da Siliziumnitrid eine starke Verbindung mit Siliziumkarbid, Aluminiumoxid, Thoriumdioxid, Bornitrid usw. eingehen kann, kann es als Kontaktmaterial zur Modifikation mit unterschiedlichen Anteilen verwendet werden.
Darüber hinaus kann Siliziumnitrid auch in Solarzellen eingesetzt werden. Nachdem der Siliziumnitridfilm durch das PECVD-Verfahren plattiert wurde, kann er nicht nur als Antireflexionsfilm verwendet werden, um die Reflexion von einfallendem Licht zu reduzieren, sondern bei der Abscheidung des Siliziumnitridfilms treten auch Wasserstoffatome als Reaktionsprodukt ein Der Siliziumnitridfilm spielt ebenso wie im Siliziumchip eine Rolle bei der Passivierung von Defekten. Das Verhältnis der Anzahl von Siliziumnitrid zu Siliziumatomen beträgt hier keine strengen 4:3, ist jedoch je nach den unterschiedlichen technischen Bedingungen innerhalb eines bestimmten Bereichs nicht fest, und die physikalischen Eigenschaften des Films, die unterschiedlichen Atomverhältnissen entsprechen, sind unterschiedlich .
Wird in Ultrahochtemperatur-Gasturbinen, Flugzeugtriebwerken, Elektroöfen usw. verwendet.
Siliziumnitrid-Keramikmaterialien können für technische Hochtemperaturkomponenten, fortschrittliche feuerfeste Materialien in der metallurgischen Industrie, Korrosionsschutzkomponenten und Dichtungskomponenten in der chemischen Industrie, Werkzeuge und Schneidwerkzeuge in der zerspanenden Industrie usw. verwendet werden.
Da Siliziumnitrid eine starke Verbindung mit Siliziumkarbid, Aluminiumoxid, Thoriumdioxid, Bornitrid usw. eingehen kann, kann es als Kontaktmaterial zur Modifikation mit unterschiedlichen Anteilen verwendet werden.
Darüber hinaus kann Siliziumnitrid auch in Solarzellen eingesetzt werden. Nachdem der Siliziumnitridfilm durch das PECVD-Verfahren plattiert wurde, kann er nicht nur als Antireflexionsfilm verwendet werden, um die Reflexion von einfallendem Licht zu reduzieren, sondern bei der Abscheidung des Siliziumnitridfilms treten auch Wasserstoffatome als Reaktionsprodukt ein Der Siliziumnitridfilm spielt ebenso wie im Siliziumchip eine Rolle bei der Passivierung von Defekten. Das Verhältnis der Anzahl von Siliziumnitrid zu Siliziumatomen beträgt hier keine strengen 4:3, ist jedoch je nach den unterschiedlichen technischen Bedingungen innerhalb eines bestimmten Bereichs nicht fest, und die physikalischen Eigenschaften des Films, die unterschiedlichen Atomverhältnissen entsprechen, sind unterschiedlich .
Wird in Ultrahochtemperatur-Gasturbinen, Flugzeugtriebwerken, Elektroöfen usw. verwendet.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy